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Diffusionsfenster

Öffnung der bei der Diffusion verwendeten Maske. Um eine örtlich unterschiedliche f Dotierung zu erreichen, erfolgt die Diffusion meist durch Masken. Für die in der Siliciumtech-nik verwendeten Dotanten Bor, Phosphor und Arsen wird eine Maske aus Silicium-dioxid eingesetzt. Masken aus Siliciumnitrid sind für Indium, Aluminium und Gallium erforderlich. Um eine ausreichende Maskierung (Schutz gegen ungewollte Dotierung) zu erreichen, ist eine bestimmte Mindestdicke notwendig. Diese hängt außer vom Dotanten von der verwendeten Atmosphäre (Wasserstoff, Stickstoff) ab.

 

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