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Plasmaimmersionsimplantation

Oberflächen- und Grenzflächenphysik, PI3, neuartiges technisches Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von komplexen Körpern (typische Körpergrösse bis zu 60 cm), basierend auf der oberflächennahen Implantation (mittels Hochspannungspulsen) von in einem Plasma erzeugten Ionen (radio frequency excitation). Die typische Implantationstiefe liegt deutlich unter einem Mikrometer. Kommerziell wird das Verfahren z.B. bei der Stickstoff (N)-Implantation in Edelstahl zur Erzeugung einer Hartstoffschicht angewendet. Die Prozesstemperatur des Targets kann niedrig gehalten werden und beträgt typischerweise weniger als 200 °C. Das Verfahren zeichnet sich zudem durch eine hohe Umweltverträglichkeit aus. Gefährliche Chemikalien finden keinen Einsatz. Die Plasmaimmersionsimplantation stellt ein Konkurrenzverfahren zur Plasmabeschichtung (PVD) dar.

 

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