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Implantation

Einbringen von Fremdatomen durch Beschuss von v.a. Kristallen mit Ionen. Es werden je nach Ionensorte und benutzter Energie dünne Schichten von 0,1 bis 10 mm erfasst. (Ionenimplantation, Physikalische Oberflächenveränderungen)

 

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Implantationsantage

 

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