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Metall-Gate-Technik

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Martina Wagner

Abk. MGT. Übliche Ausföhrungsform der MOS-Technik, bei der das Gate aus einem Metall besteht. Bei der M. als ursprünglicher Standardausführung der MOS-IS verlangen die vorgegebenen Toleranzen von Masken und beim Justieren eine Überlappung des Gatebereichs mit den Gebieten für Source und Drain, da diese mittels Diffusion hergestellt werden. Um die dadurch entstehenden unerwünschten Kapazitäten zu reduzieren (Kapazität, parasitäre), wurden folgende verbesserte Varianten eingeführt (selbstjustierende Techniken): Ersatz des üblichen Gatematerials Aluminium (AI) durch hochschmelzende Metalle (wie Molybdän), das vor der Source-Drain-Diffusion aufgebracht wird und somit als selbstjustierende Maske dient (RMOS-Tech-nik); Benutzung eines AI-Gates als Maske für das Implantationsverfahren; Übergang zur Silicon-Gate-Technik.

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