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Parallel-Platten-Reaktor

Elektronik, Halbleiterphysik, Reaktor, der zum Ionenbeschuss von Festkörpern genutzt wird und damit eine wichtige Rolle bei trockenen Ätzverfahren wie zB. dem Ionenätzen spielt. Die beiden mit einer Spannungsquelle verbundenen und somit als Elektrode fungierenden parallelen Platten, von denen eine die zu ätzende Substanz trägt, befinden sich in einer Vakuumkammer (siehe Abb. Ionenätzen). Durch die angelegte Spannung wird das Ätzgas zur Glimmentladung gebracht, wobei ein Plasma mit Ionen, Elektronen und angeregten neutralen Teilchen erzeugt wird. Die an den Elektroden durch Elektronen entstehende negative Ladung stellt sich gerade so sein, dass sich Elektronen- und Ionenströme kompensieren. Die Ionen können an der Plattenoberfläche eine Ätzreaktion auslösen, mit der sich sehr feine Strukturen erzeugen lassen.

 

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