Haftmaske
Auf dem Wafer haftende r Maske, die im Prozeß der Lithografie entsteht. Entsprechend den bei dem jeweiligen Herstellungsschritt herrschenden Bedingungen bestehen die H. aus Isolatoren (z. B. Sili-ciumnitrid, Siliciumdioxid), Metallen (z. B. Chrom) oder nur aus einem Resist. Alle derzeit für die Fertigung von IS eingesetzten Masken sind H.
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