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Schablone

Informationsträger fiir mittels Lithografie auf dem Wafer zu erzeugende Strukturen. Eine S. besteht aus einem strahlungsdurchlässigen Träger, auf dem sich eine strahlungsundurchlässige strukturierte Schicht befindet. In der Fotolithografie ist der Träger Quarzglas. Man unterscheidet Fotoemul-sions- und Metall-S. Ausgangspunkt für die Herstellung von S. ist das Layout. Dieses wird zur Steuerung eines Bildgenerators benutzt, der die Zwischen-S. (ein vergrößertes Einzelbild der zu erzeugenden Strukturen) durch Belichten von Rechtecken zusammensetzt. Bei hohen Qualitätsforderungen (VLSI) wird die Zwischen-S. mit direktschreibender Elektronenstrahl-Lithografie hergestellt. Durch wiederholte verkleinerte Projektion der Zwischen-S. auf eine Fotoplatte bzw. eine mit Fotolack beschichtete mit einer dünnen Metallschicht überzogene Glasplatte entsteht die — Originalschablone. Durch Kopieren entsteht daraus die Arbeitsschablone. Die Gesamtheit der für die Fertigung einer IS notwendigen S. bildet einen Schablonensatz. S. für die Elektronen-, Ionen- und Röntgenbelichtung werden mittels direktschreibender Elektronen-strahl-Lithografie hergestellt.

 

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Weitere Begriffe : Dehnungsmeßstreifen | Strahlenexposition | Schaltungslogik

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