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Transmissionsmasken

Elektronik, Halbleiterphysik, in der Halbleitertechnik verwendete Masken zur Übertragung eines vorgegebenen geometrischen Musters auf eine dünne Schicht eines strahlungsempfindlichen Films (Photolack) mit Hilfe von Lithographie. Das Muster ist hierbei in Form eines für die verwendete Strahlung undurchsichtigen Materials (im Ultravioletten z.B. Chrom) auf einem durchsichtigen Träger (im Ultravioletten meist Quarzglas) definiert. Durchstrahlung der Maske mit einer geeigneten Quelle überträgt dann das Muster auf die strahlungsempfindliche Schicht. Transmissionsmasken im Massstab 1 : 1 werden für Kontaktbelichtung und Proximityprinting verwendet. Masken im Massstab n : 1 werden für Projektionslithographie wie z.B. das »step-and-repeat-Verfahren« eingesetzt. (Photolithographie, Röntgenstrahllithographie, Elektronenlithographie)

 

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