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Laserdeposition

Herstellung dünner Filme durch die laserinduzierte photolytische oder pyrolytische Zerlegung von Gasen. Diese Methode kommt in verschiedenen Varianten der chemischen Gasphasenabscheidung zur Anwendung. Bei der photolytischen Zerlegung werden durch die Absorption der Photonen die Bindungen einzelner Atome in den Gasmolekülen aufgebrochen. Die Atome stehen dann für das Schichtwachstum zur Verfügung. Die Methode hat gegenüber konventionellen Verfahren zwei Vorteile. Zum einen können grosse Mengen der gewünschten Atome ohne hohe Prozesstemperaturen erzeugt werden. Zum anderen variieren Art und Ausbeute der Zerlegungsprodukte stark mit der Wellenlänge, so dass durch Veränderung der Wellenlänge eine bessere Kontrolle des Wachstums möglich ist als bei pyrolytischen Prozessen. Die Laserdeposition wird in der Produktion integrierter Schaltungen eingesetzt, wo man die Möglichkeiten der guten räumlichen Auflösung ausnutzt, und bei der Produktion von SiO2-Filmen in dynamischen RAMs.

 

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